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        巨偉鈦業常年供應鈦合金鍛件、鈦合金棒、鈦合金加工件、鈦合金異形件、鈦靶材、鈦合金法蘭、鈦環、鈦合金螺絲、鈦合金管、鈦合金方塊等。

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        系統搜索到約有92項符合靶材的查詢結果


        現貨供應鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

        現貨供應鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

        2022-10-13   瀏覽次數:98

        產品名稱:鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊,方靶塊,靶板,管靶材質國內牌號:TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...
        巨偉鈦業談鈦靶鋯靶等常用靶材的種類與行業發展前景

        巨偉鈦業談鈦靶鋯靶等常用靶材的種類與行業發展前景

        2022-10-13   瀏覽次數:93

        1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術之一。按照應用領域不同,電子派射耙材可以分為半導體靶材、平面靶材、鍍...
        鈦鎳鋯濺射靶材的應用及發展前景

        鈦鎳鋯濺射靶材的應用及發展前景

        2022-10-09   瀏覽次數:100

        濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...
        巨偉鈦業定制TA1/TA2鈦靶 702/705鋯靶 鉻靶材 規格全 批量價優

        巨偉鈦業定制TA1/TA2鈦靶 702/705鋯靶 鉻靶材 規格全 批量價優

        2022-09-22   瀏覽次數:88

        一、產品名稱:鈦靶材、鈦靶牌號:TA0, TA1, TA2, TC4, TC6, TC11, GR5, TA7 廠家:巨偉鈦業主要形式:圓靶、板靶、管靶鈦含量≥:99.8(%)雜質含量:0.02(%)重量:不等(KG/塊)密度:4.51或4.50圓靶...
        鉬合金濺射靶材的研究現狀與發展趨勢

        鉬合金濺射靶材的研究現狀與發展趨勢

        2022-09-22   瀏覽次數:94

        鉬屬于難熔金屬,體心立方結構,具有導電導熱性好、熱膨脹系數低、耐腐蝕性好及環境友好等優點,鉬薄膜的比阻抗和膜應力僅為鉻的一半,因此,由鉬及鉬合金制備的濺射靶材已廣泛應用于...
        磁控濺射鈦靶材的性能要求 制備技術 發展展望

        磁控濺射鈦靶材的性能要求 制備技術 發展展望

        2022-08-11   瀏覽次數:168

        目前,我國已發展成世界鈦工業大國,鈦產能與產量均位居世界首位,然而國內鈦材的整體技術含量較低、產品附加值低、產能嚴重過剩,鈦工業面臨"大而不強"的處境,加大鈦材深加工及開發...
        寶雞鈦鎳鋯靶材廠家談濺射靶材的種類、制備、應用領域

        寶雞鈦鎳鋯靶材廠家談濺射靶材的種類、制備、應用領域

        2022-08-03   瀏覽次數:113

        濺射工藝屬于物理氣相沉積技術的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術之一。在電子信息產業的發展過程中,金屬薄膜的制備十分重要。濺射工藝利用離子源產生的離子,在真空中加速聚...
        鎢鉬鉭鈮濺射靶材的應用及制備技術

        鎢鉬鉭鈮濺射靶材的應用及制備技術

        2022-08-02   瀏覽次數:267

        前言磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積,離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材,靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜,是用來制備薄膜材料的一種主要方法[1]。它的基本原...
        巨偉鈦業現貨供應鈦靶材 鋯靶 鉻靶塊

        巨偉鈦業現貨供應鈦靶材 鋯靶 鉻靶塊

        2022-06-20   瀏覽次數:83

        一、產品名稱:鈦靶材、鈦靶牌號:TA0, TA1, TA2, TC4, TC6, TC11, GR5, TA7 廠家:巨偉鈦業主要形式:圓靶、板靶、管靶鈦含量≥:99.8(%)雜質含量:0.02(%)重量:不等(KG/塊)密度:4.51或4.50圓靶...
        定制TA1/TA2鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

        定制TA1/TA2鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

        2022-05-31   瀏覽次數:91

        產品名稱:鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊,方靶塊,靶板,管靶材質國內牌號:TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...
        電子行業用高純金濺射靶材研究綜述

        電子行業用高純金濺射靶材研究綜述

        2022-05-31   瀏覽次數:120

        電子工業經歷了由電子管、半導體集成電路及超大規模集成電路的發展歷程,對人類社會的各個方面帶來革命性的沖擊。在集成電路的制程中,各類元件如二極管、三極管、電阻器及電容...
        濺射鈦靶材的技術及性能要求介紹

        濺射鈦靶材的技術及性能要求介紹

        2022-04-30   瀏覽次數:132

        磁控濺射是制備薄膜材料的關鍵技術,而鈦靶材是這項技術中需要使用的鍍膜材料。現在很多行業,如集成電路,裝飾鍍膜行業、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術,這些行業對于產品的質...
        金屬靶材的主要類型與鈦鎳鋯靶材的應用現狀

        金屬靶材的主要類型與鈦鎳鋯靶材的應用現狀

        2022-04-01   瀏覽次數:145

        p>1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術的一種, 是制備電子薄膜材料的主要技術之一。按照應用領域不同,電子派射耙材可以分為半導體靶材、平面靶材...
        磁控濺射鈦靶材的性能要求與制備技術

        磁控濺射鈦靶材的性能要求與制備技術

        2022-03-16   瀏覽次數:202

        目前,我國已發展成世界鈦工業大國,鈦產能與產量均位居世界首位,然而國內鈦材的整體技術含量較低、產品附加值低、產能嚴重過剩,鈦工業面臨"大而不強"的處境,加大鈦材深加工及開發...
        定制N6鎳靶 鍍膜鎳靶材 鎳靶塊 濺射鍍膜鎳多弧靶 規格全

        定制N6鎳靶 鍍膜鎳靶材 鎳靶塊 濺射鍍膜鎳多弧靶 規格全

        2022-03-01   瀏覽次數:148

        名稱:鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號:N6、N4用途:鎳靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等行業。...
        磁控濺射金基合金靶材的制備及發展趨勢

        磁控濺射金基合金靶材的制備及發展趨勢

        2022-02-16   瀏覽次數:148

        引言 磁控濺射技術利用電子源產生 電子,其在真空 中通過加速聚焦形成高速能量粒子束轟擊固體表面(靶材),被激發 出來的原子沉積在基底表 面形成覆膜 。該技術具有成膜致密度高...
        等離子噴涂技術在濺射靶材制備中的應用

        等離子噴涂技術在濺射靶材制備中的應用

        2021-12-13   瀏覽次數:155

        近年來,隨著全球經濟技術的高速發展,產品的多功能化和輕便化的不斷推進,使得薄膜科學的應用日益廣泛。而濺射靶材作為鍛膜產業的基本耗材, 其制備技術也得到了長足發展 。濺射薄...
        現貨供應鉻靶 鉻板靶 鉻旋轉靶 鉻多弧靶 真空鍍膜鉻靶材

        現貨供應鉻靶 鉻板靶 鉻旋轉靶 鉻多弧靶 真空鍍膜鉻靶材

        2021-12-05   瀏覽次數:199

        產品名稱:高純度旋轉鉻靶材 真空濺射鉻靶材產 地:陜西寶雞材 質:Cr純 度:99.99%晶 粒 度:<100um規格:可以按照用戶需要定制。應用領域:鉻靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,L...
        國內外磁控濺射鈦靶鎳靶鋯靶材的現狀及發展趨勢

        國內外磁控濺射鈦靶鎳靶鋯靶材的現狀及發展趨勢

        2021-12-02   瀏覽次數:378

        1842年格波夫在實驗室中發現了陰極濺射現象,由于人們對濺射機理缺乏深入了解和濺射薄膜技術發展緩慢,商業化的磁控濺射設備直到1970年才逐漸應用于實驗室和小型生產。自20世紀...
        鎢靶鉭靶鈮靶等難熔金屬濺射靶材的應用及制備技術

        鎢靶鉭靶鈮靶等難熔金屬濺射靶材的應用及制備技術

        2021-11-16   瀏覽次數:122

        前 言 磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積,離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材,靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜,是用來制備薄膜 材料的一種主要方法[1]。它的基本...
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